2026年第73回応用物理学会春季学術講演会にて学部4年生が口頭発表を行いました。

応用物理学会春季学術講演会@東京科学大 (3/15)にて学部4年生が口頭発表を行いました。

題目は

多能性®中間膜を用いたエピタキシャルAlN膜の形成とBAW特性評価

分極反転Si0.1Sc0.3AlN/Sc0.3AlN膜を用いた5 GHz動作BAW共振子の特性評価

分極反転ScAlN/SiAlN膜を用いた10 GHz動作2次モードBAW共振子

3名ともに初めての学会発表でしたが,卒論発表会で出た課題を踏まえた成長も感じられるしっかりとした発表でした。

質疑応答では助け舟を出しましたので,修士進学後は経験を積んで自身で回答できるように取り組んでほしいです。

お疲れさまでした!!