米国物理学協会が出版しているApplied physics letters [IF: 3.791]に投稿論文（First author M2学生，corr. author 鈴木 ）がアクセプトされました。
AlN薄膜の分極制御が可能なSiドーピングが薄膜の圧電性，弾性に及ぼす影響，SiAlN膜とAlN膜の積層による分極反転膜の形成，高次モード薄膜共振子への応用をまとめたものです。
一度は3月頃に別論文誌にrejectされたものの，再度実験データを見直し，APLにチャレンジしました。手ごたえのある研究だったので，IFが高い論文誌に掲載されて，安心しました。
First authorのM2学生の頑張りがこの成果につながったと思います。
（修士学生が筆頭著者論文がAPLにアクセプトされるのは，山梨大では初かも？）
