来年度からの科研費・若手研究に無事採択されました．
研究テーマはM1学生とともに進行中の
「分極反転構造AlN薄膜を用いたBAWデバイスの高性能化」に関するものです．
研究期間は3年間．
若手研究はこれで2回目の採択．
山梨大に着任して，研スタ（2年間）⇒1回目・若手（3年間）⇒2回目・若手（3年間）と
科研費は途切れずに当たっています．
国内学会での招待講演，国際学会の発表，大学お仕事の締め切りが多数重なって，申請書作りに時間が取れず，
なんとか締め切りに間に合わせた形だったのでかなり不安でした．
自分よりはるかに忙しい教授，准教授の先生方はどのように時間を作っているのか．．．
（申請書を改めて読んだのですが，面白そうな研究計画とは思うものの，練り尽くされていない．．．とも感じました．）
また今回から審査結果通知が4月から2月下旬に変更されました．
卒論発表会が終了した22日午後から申請ページをチェックし始め，
土日ももしかしたらと暇があれば申請ページにアクセス，
そして2月28日14時頃に採択されていることが確認できました．
授業もなく，大学お仕事も少ない3月を準備期間（経費は執行できませんが）として活用できるのはかなり良いです．
3年後は無差別級の「基盤研究」で戦うことになります．
この科研費を活用して良質な研究成果を出すとともに，力を蓄えて行こうと思います．
